이번에 개발된 표면(pGD3) 및 폴리라이신 코팅 위에서 장시간 배양된 신경세포.KAIST 제공
[대전=일요신문] 박하늘 기자 = 한국과학기술원(KAIST) 생명과학과 전상용 교수와 생명화학공학과 임성갑 교수가 신경세포를 오랜기간 안정적으로 배양할 수 있는 아세틸콜린 고분자 박막을 개발했다고 17일 밝혔다.
신경세포는 장기배양이 어려워 퇴행이 되기전 죽게 돼 노인성·퇴행성 신경질환 연구가 어려웠다.
기존에는 특정 수용성 고분자(PLL)를 배양접시 위에 코팅하는 방법을 통해 신경세포를 배양으나 이 방법은 장기적, 안정적인 세포 배양이 불가능 하다.
연구팀은 기체 상태의 반응물을 이용해 고분자를 박막 형태로 합성하는 ‘개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD)’을 이용해
기존 세포 배양 기판 위에 손쉽게 얇고 안정적인 박막을 만들었다.
연구팀은 이 공정으로 신경세포를 장기적으로 배양할 수 있는 공중합체 고분자 박막을 합성하는 데 성공했다.
이 고분자 박막은 신경전달물질인 아세틸콜린과 유사한 물질로 이뤄져 있다.
연구팀은 이 박막에서 새로 배양된 신경세포가 기존의 신경세포보다 전기생리학적 측면 및 신경전달 기능적 측면에서 안정화된다는 사실을 확인했다.
KAIST 전상용(왼쪽)·임성갑 교수
이번 연구결과는 ‘에이시에스 나노((ACS Nano) 10월28일자 온라인 판에 게재됐다.
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