또한 김명웅 교수는 기능성 고분자 구조 설계 및 정밀합성, 다양한 응용분야의 연구성과를 인정받아 ‘폴리머 케미스트리’의 2022년 ‘촉망받는 연구자’로 선정됐다.
포토레지스트 소재는 반도체 생산공정에서 회로를 그리는 리소그래피 공정의 핵심 화학소재다. 자외선을 이용해 전자회로 이미지를 실리콘 기판에 그려넣는 패턴형성공정에 반드시 필요한 핵심 소재로 국산화를 위한 기술 개발이 매우 중요하다.
이진균·김명웅 교수의 공동연구팀은 여러 산업체 및 산업통상자원부 산하 한국산업기술평가관리원에서 반도체 패터닝 및 디스플레이 화소 형성 포토레지스트 개발 과제를 수주해 포토패터닝 소재 연구에 매진하고 있다. 대학원 인력양성사업인 반도체소재부품인력양성사업에도 참여하며 반도체 소재 기술 교육에도 기여하고 있다.
이진균 인하대학교 고분자공학과 교수는 “우리 연구팀은 포토레지스트 기술을 연구하는 국내 몇 안 되는 그룹이다”라며 “향후에도 성공적으로 연구과제들을 수행해 인하대학교가 반도체‧디스플레이 공정용 화학소재 분야의 선두가 될 수 있도록 노력하고 관련 우수 신진 인력 배출을 위해 최선을 다하겠다”라고 말했다.
김명웅 인하대학교 화학과 교수는 “이번 연구는 차세대 포토레지스트 기초 및 실용 모두 아우른 연구다”라며 “이를 기반으로 광감성 고분자 구조 이해, 정밀 합성 및 활용에 대한 종합적인 연구를 진행할 계획이다”라고 밝혔다.
박창식 경인본부 기자 ilyo11@ilyo.co.kr
