빛의 회절과 간섭을 이용한 3차원 환형 나노구조체 구현 및 형성원리.(사진제공=한국표준과학연구원)
[대전=일요신문] 박하늘 기자 = 국내연구진이 나노구조체 제작에 방해가 되는 빛의 회절과 간섭을 역이용해 3차원 나노구조체를 만드는데 성공했다.
한국표준과학연구원은 나노바이오측정센터 유은아 박사는 포토리소그래피 공정기반에서 빛의 회절과 간섭효과를 이용한 3차원 나노구조체 어레이 제작 기술을 개발했다고 8일 밝혔다.
포토리소그래피는 반도체 웨이퍼에 감광물질을 바르고 마스크패턴을 올려 사진을 찍는 것 같이 회로를 만드는 기술로, 반도체와 집적회로 등의 미세페턴을 제작하는 데 사용된다. 그러나 이 과정 중 빛의 회절과 간섭이 정확한 구조를 만드는데 방해해 어려움을 겪는다.
유은아 박사는 빛의 회절과 간섭을 역이용해 빛과 물질 간 상호작용을 토대로 큰 면적에 쉽고 빠르게 3차원 나노구조체를 만들었다.
유 박사는 이번 연구성과로 복잡한 공정 없이 정교한 나노구조체 어레이를 제작할 수 있어 반도체, 광학, 의료 소자 등 다양한 산업 분야에 광범위 하게 적용될 수 있을 것으로 기대하고 있다.
이번 연구결과는 국제학술지 ‘어드밴스드 펑셔널 머터리얼즈(Advanced Functional Materials)’ 8월2일자 표지논문으로 게재됐다.
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